X荧光膜厚仪技术参数
长期工作稳定性高，故障率低。
多变量非线性回收程序
相互独立的基体效应校正模型
元素分析范围从硫（S）到铀（U）中间的任意金属镀层（镀金、镀锡、镀锌等）
一次可同时分析多达五层镀层，快速、准确。
薄可测试0.005μm
分析含量一般为2ppm到99.9%
镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同）
任意多个可选择的分析和识别模型
度适应范围为15℃至30℃
电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源
仪器尺寸：576（W） x 495 （D） x 545（H） mm
重量：90 kg
X荧光膜厚仪性能优势
鼠标可控制移动平台，鼠标点击的位置就是被测点
高分辨率探头使分析结果更加精准
良好的射线屏蔽作用
测试口高度敏感性传感器保护
满足各种不同厚度样品以及不规则表面样品的测试需求
小φ0.1mm的小孔准直器可以满足微小测试点的需求
高精度移动平台可定位测试点，重复定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光，可自动定位测试高度
定位激光确定定位光斑，确保测试点与光斑对齐
X荧光膜厚仪检测实例
铜镀镍样品
X荧光膜厚仪测试谱图
样 品 名 | 成分Ni(%) | 镀层Ni(um) |
吊扣 | 100 | 19.321 |
吊扣2# | 100 | 19.665 |
吊扣3# | 100 | 18.846 |
吊扣4# | 100 | 19.302 |
吊扣5# | 100 | 18.971 |
吊扣6# | 100 | 19.031 |
吊扣7# | 100 | 19.146 |
平均值 | 100 | 19.18314 |
标准偏差 | 0 | 0.273409 |
相对标准偏差 | 0 | 1.425257 |
